荷兰设备大厂艾司摩尔(ASML)并购股后汉微科，牵动台积电与三星的制程竞赛。设备业者认为，ASML并购汉微科之后，可能协助三星加快7纳米量产，使得台积电与三星的7纳米大战战火更烈。

  业界观察，三星在10纳米制程失利之后，已宣布提前7纳米量产计划，率先在7纳米导入ASML量产的极紫外光微影制程(EUV)设备机台。三星规划，明年第2季或第3季EUV机台装设完工之后，明年底就会用于量产7纳米芯片。

  台积电在7纳米制程尚未导入EUV设备。由于ASML并购汉微科之后，在先进制程机台能量大幅提升，业界密切关注ASML是否会协助三星加快7纳米布局，以及台积电后续因应动作。

  台积电表示，对ASML并购汉微科持肯定态度，预期以ASML雄厚财力，可以让汉微科有更大的后盾，支持在电子束检测更先进的研发。

  对于三星提前在7纳米采用EUV微影制程，台积电表示，考量目前EUV设备还有很多技术瓶颈，公司才决定不在7纳米导入使用，将紧盯对手发展。台积电强调，若EUV设备在2018年更成熟，该公司也会采取应变对策，绝不会让对手取得先机。

  帆宣信邦战略地位提升

  艾司摩尔(ASML)宣布以新台币千亿元并购汉微科之后，将强化在台研发能量及采购比重，ASML在台四大夥伴帆宣、公准精密、信邦，以及大银等台湾业者，重要性同步拉升。

  ASML很早就与台湾建立关系，1988年由汉民代理台湾业务，2007年进一步在台成立卓越创新中心，陆续将全球训练中心、二手设备翻修业务，以及子公司YieldStar量测系统生产线移到台湾，就近服务客户及支援全球。

  ASML并把亚洲采购中心移到台湾，从台湾上百家供应商中，几经辅导评核等程序，选出帆宣、公准、信邦、大银等成为ASML主要供应商，间接协助提升台湾半导体业整体技术能力。

  极紫外光微影制程 (EUV)技术是次世代微影技术之一，被半导体业视为跨入10纳米制程以下，取代传统浸润式曝光(Immersion)、延续摩尔定律的一项重要微影技术。

  浸润式曝光机台是在光源与晶圆中间加入水的原理，使波长缩短到132纳米的微影技术;EUV曝光设备是利用波长极短的紫外线，在矽基板上刻出更微细的电路图案。

  EUV售价昂贵，一台售价高达7,000万欧元(约新台币25.6亿元)，主力设备开发厂艾司摩尔(ASML)为降低开发风险，过去曾要求英特尔、三星及台积电以入股，共同参与这项先进微影技术开发，如今相关量产设备已陆续出货，和浸润式曝光机搭配使用，开始导入在10纳米以下先进制程。